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UEDA, M.; LEPIENSKI, C. M.; RANGEL, E. C.; CRUZ, N.; DIAS, F. G. Nanohardness and contact angle of Si wafers implanted with N and C and Al alloy with N by plasma ion implantation. Surface and Coatings Technology, v. 156, n. 1-3, p. 190-194, July 2002. (INPE-13388-PRE/8603). Disponível em: <http://urlib.net/ibi/6qtX3pFwXQZ3r59YCT/H3LsU>.
Como Fazer a Citação no Texto (por autor/ano)
... como proposto por Ueda et al. (2002).
... pode ser encontrada na literatura (UEDA et al., 2002).